Diferencia entre revisiones de «Procedimiento de concesión II: presentación y examen en Directrices protección topografías semiconductores»

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Revisión actual del 01:08 8 feb 2013


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Wikilibro: Directrices protección topografías semiconductores > Capítulo 2: El modo de protección

Sección 3

Procedimiento de concesión II: asignación de fecha de presentación y examen

Fecha de presentación

Artículo 9. Fecha de presentación.

1. A los efectos del artículo 7.1, apartado b) de la Ley, se considerará como fecha de presentación, aquella en que tenga lugar de acuerdo con el artículo 1.1 del presente Reglamento, comprendiendo la siguiente documentación:

a) La instancia de la solicitud de registro.

b) La descripción de la topografía.

c) La identificación o representación gráfica de la topografía.

d) El justificante del pago de la tasa por solicitud de registro.

Estos documentos constituyen los documentos mínimos para obtener una fecha de presentación.

2. Dentro de los diez días contados desde la recepción en sus oficinas, la OEPM rechazará de plano, haciendo la correspondiente notificación al interesado, las solicitudes que no contengan los documentos mencionados en el apartado anterior.

(Véanse, en relación con este apartado 2, los artículos 4 del Real Decreto 441/1994, de 11 de marzo, y 71 de la Ley 30/1992, de 26 de noviembre.)

Atención: Un solicitante puede perder la posibilidad de registrar una topografía que ha sido explotada comercialmente 2 años antes si ha dejado pasar todo este plazo y no se le admite a trámite por la falta de alguno de estos documentos.


Examen de solicitud

Artículo 10. Examen de solicitud.

1. Admitida a trámite la solicitud, el Registro de la Propiedad Industrial* examinará si la misma se ajusta a lo preceptuado en los artículos 2 al 7 del presente Reglamento.

2. Asimismo, comprobará en su caso:

a) Si la tasa de depósito de material ha sido pagada.

b) Si la fecha de presentación de la solicitud está comprendida dentro del plazo de los dos años anteriores, contados a partir de la fecha de iniciación de la primera explotación comercial.

3. Si como resultado del examen previsto en el apartado anterior, la solicitud de registro presentase algún defecto, el Registro de la Propiedad Industrial* comunicará las objeciones para que el solicitante, en el plazo de dos meses, subsane los defectos o efectúe las alegaciones que estime oportunas en defensa de la solicitud de registro.


Resolución

Artículo 11. Resolución.

1. Si del examen realizado conforme a lo previsto en el artículo 10, no resultan defectos que impidan la concesión o cuando tales defectos hubieran sido debidamente subsanados, el Registro de la Propiedad Industrial* concederá el registro.

(Téngase presente, en relación con lo dispuesto en el presente apartado, el artículo 11 del Real Decreto 441/1994, de 11 de marzo, según el cual: “Los plazos máximos de resolución de los distintos procedimientos regulados en la Ley 11/1988, de 3 de mayo, de protección jurídica de las topografías de los productos semiconductores, y en su Reglamento de ejecución, se computarán desde la fecha de recepción en la Oficina Española de Patentes y Marcas de las respectivas solicitudes y serán de doce meses”. A lo que el artículo 12 del mencionado Real Decreto añade que “cuando… no haya recaído resolución expresa en los plazos fijados… se podrán entender estimadas las correspondientes solicitudes.)

2. El Registro de la Propiedad Industrial* denegará la solicitud de registro cuando subsistan defectos que no hubieran sido debidamente subsanados en el plazo otorgado al efecto.

3. Se publicarán en el «Boletín Oficial de la Propiedad Industrial» las menciones relativas a la concesión o denegación con los datos necesarios para la identificación de la solicitud.

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Procedimiento de concesión I: presentación y requisitos